服務(wù)熱線
010-86460119
歡迎訪問(wèn)北京華測(cè)試驗(yàn)儀器有限公司網(wǎng)站
全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線：
13911821020
產(chǎn)品中心您當(dāng)前的位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 功能材料測(cè)試儀器 > 高真空退火爐 > Huace1200G華測(cè)-高真空退火爐/高溫介電溫譜儀
基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱：
華測(cè)-高真空退火爐/高溫介電溫譜儀
產(chǎn)品型號(hào)：Huace1200G
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
所在地：北京市
更新日期：2025-12-17
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?， 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。華測(cè)-高真空退火爐/高溫介電溫譜儀
產(chǎn)品特性Product characteristics
| 品牌 | 華測(cè) |
|---|
高真空退火爐
Huace1200G
儀器介紹：
華測(cè)儀器開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵眨?高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率！
華測(cè)-高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備原理：
1、輻射加熱
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
2、紅外線燈
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
3、反射光
反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
華測(cè)-高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備特點(diǎn)
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度高的精度控制
通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供精度高。
清潔加熱
反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設(shè)備結(jié)構(gòu)：
序號(hào) | 項(xiàng)目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測(cè) | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測(cè) | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍 | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測(cè) | 可定制 |
7 | 制冷水機(jī) | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶 | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
更多應(yīng)用：
電子材料 | 半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻） |
熱源薄膜形成 | |
激活離子注入后 | |
硅化物的形成 | |
陶瓷與無(wú)機(jī)材料 | 陶瓷基板退火爐 |
玻璃基板退火爐 | |
鋼鐵和金屬材料 | 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬 |
爐焊接模擬 | |
高真空熱處理（1000°c以下） | |
大氣氣體熔化過(guò)程 | |
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐 | |
復(fù)合材料 | 耐熱性評(píng)價(jià)爐 |
無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐 | |
其他 | 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐 |
分段分區(qū)控制爐 | |
溫度梯度爐 | |
爐氣分析 | |
超導(dǎo)陶瓷退火爐 |
京公網(wǎng)安備11011302007502號(hào)